Products Maskless Laser Lithography System

이 장비는 SLM(GLV) 혹은 DMD를 적용할 수 있는 장비입니다. Mask 없이 포토레지스터에 특 정한 패턴을 가공을 할 수 있으며, L/S 비는 2.0μm/2.0μm입니다.

레이저 소스 : I-line ( 404nm/ 355nm depends on Photoresist)
Exposure Tools ; SLM, DMD, GLV
스테이지 :
스트로크(X*Y*Z) -> 300mm x 300mm x 10mm or 650mm x 650mm x 10 mm
Accuracy -> ≤± 0.1 μm
Repeatability -> ≤± 0.1 μm
크기 : 1800 mm x 1600 mm x 1650 mm (고객 요청에 따라 변경 가능)
L/S 비 : 2.0μm / 2.0μm